Imicryl Nova Compo C Nanohibrit Üniversal Kompozit 8li Super Set

• Imicryl Nova CompoC Nanohibrit Üniversal Kompozit anterior ve posterior restorasyonlarda kullanılan ışıkla sertleşen radyopak nanohibrit kompozit.

Imicryl Nova CompoC Nanohibrit Üniversal Kompozit Bileşimi

• Monomer matriksi farklı dimetakrilatlardan (% 18-22) ve ULS (Ultra Low Syhrinkage) monomerden oluşur. Doldurucular ise ba-glass, yiterbiyum ve prepolimerize doldurucular (%78-82), katalizör ve stabilizatörden oluşmaktadır.

Monomer Teknolojisi

• Nova Compo C’nin rezin matriksi yüksek molekül ağırlıklı, hacimce büzülmesi düşük monomerler kullanılarak dizayn edilmiştir. Bu rezin matriks yüksek molekül ağırlıklı monomerlerden oluştuğu için daha az büzülme, daha az deformasyon gösterir ve fleksibl bir yapıya sahip olur.
• Ayrıca bu monomerler daha hidrofobik yapıya sahip oldukları için su emilimi de minimize edilmiştir. Nova Compo C TEGDMA gibi seyreltici monomerleri çok az miktarda içermektedir.
• Seyreltici monomerler, düşük molekül ağırlığına ve yüksek çapraz bağ kabiliyetine sahiptir. Bu durum kompozitin elastik modülünü ve sertliğini artırır. Yüksek elastik modülüne sahip kompozitler daha kırılgan olur ve yüksek stres olan bölgelerde stresi tolere edemezler. Nova Compo C’nin elastik modülü optimize edilmiştir

Doldurucu Teknolojisi

• Nova Compo C Hem transparanlık hem de dayanıklılık ve radyopasitesinin optimize edilmesi için farklı tip, boyut ve miktarlarda doldurucular içermektedir.
• Yüksek yoğunluğa sahip radyopak prepolimerize doldurucular
• 0.7 µ ba-glass
• 0.4 µ ba-glass

Nano doldurucular 

Prepolimerize doldurucular düşük hacimce büzülme ve büzülme stresi, el aletlerine yapışmama ve kolay şekillendirme gibi avantajlar sağlar. Yüksek doldurucu içeren bu prepolimerize doldurucular düşük doldurucu içeren prepolimerize dolduruculardan daha fazla aşınma direnci sağlar.

Nanohibrit kompozit Nova Compo C’nin içerdiği prepolimerize doldurucuların arasındaki boşluklar nano dolgular ve farklı boyutlardaki ba-glass dolgular tarafından doldurulmuştur. Nano doldurucular ve 0.4 µ ba-glass doldurucular yüksek derecede parlatılabilirlik, yüksek aşınma direnci, yüzey sertliği ve parlaklık sağlar. Nova Compo C gün ışığından etkilenmeden yeterli çalışma zamanı sunar.

Monomerler ve doldurucuların refraktif indeksleri bukalemun efekti için en uygun şekilde optimize edilmiştir.

Doğal diş yapısına benzer ışık geçirgenliği ve saçılması için (daha iyi bir bukalemun efekti) farklı optik özelliklere sahip doldurucular seçilmiştir.

ULS MONOMER

• ULS monomer yüksek molekül ağırlığı ve düşük C=C çift bağı içerir. Fleksibilitesi yüksek bir monomerdir. Bu sayede polimerizasyon büzülmesinin ve büzülme stresinin düşük olmasını sağlar.
• ULS monomer, geleneksel UDMA ve Bis-GMA gibi monomerlere kıyasla daha yüksek bir monomer-polimer dönüşüm oranına sahiptir. Bu özellik atık monomer miktarını azaltarak polimerize olmayan monomer miktarını düşürür.
•  Daha biyouyumlu restorasyonlar yapılmasını sağlar.
•  Yüksek uzama (elongation) ve tokluk (toughness) özelliğine sahiptir bu sayede durabilitesi yüksek restorasyonlar yapılabiliyor.
• Yüksek stres bölgelerinde kompozit, bir miktar esneme ve uzama gösterir. Bu özellik, özellikle kompozit-diş ara yüz bağlantısındaki uygulanan yükleri tolere edebiliyor.

ULS Monomerinin Kompozit Yapıya Etkisi

•  Bir kompozit içerisine ilave edilmesi için BisGMA ve TEGDMA’nın %70 ve %30 oranında karışımına %10 – %25 arasında ilave edilmiştir. Bu test için kamforikon (CQ, ağırlıkça %0.3) ve  (EDAB, ağırlıkça %0.8) fotobaşlatıcı sistemi kullanılmıştır.
• Ek olarak numuneler, titizlikle ISO 4049 standartlarına uygun olarak 25x2x2 mm boyutlarında hazırlanmıştır. Bu numuneler, 1 mm/dak hızla universal test cihazında test edilmiştir.

ULS Monomer Polimerizasyon Derecesi

• Bu çalışmanın amacı, monomer ve BisGMA/TEGDMA 70/30 oranında hazırlanan rezin matriksin polimerizasyon derecesini belirlemektir.
• Buna göre çalışmada aynı kürleme protokolü ve fotobaşlatıcı sistem kullanıldı. Kullanılan malzemeler arasında CQ  %0.3 wt ve EDAB (% 0.8 wt) yer almaktadır.
• Bunun yanında numunelerin hazırlanması için 5 mm çapında 2 mm yüksekliğinde teflon kalıplar kullanıldı. Hazırlanan numuneler 20 saniye boyunca polimerize edildi. Polimerizasyon derecesinin belirlenmesi için ATR metodu kullanıldı.
• Sonuç olarak ULS monomer BisGMA /TEGDMA 70/30 karışımından % 32 oranında daha iyi polimerize olmaktadır.

ULS Monomerinin UDMA ve BIS-GMA ile Karşılaştırılması

• Sonuç olarak, % 25 civarında monomer eklenen kompozitlerin mekanik özellikleri ve elastik modülü değişmez.
• Bununla birlikte, büzülme ve büzülme stresi azalır ve polimerizasyon derecesi artar.
• ULS monomerinin yüksek uzama ve dayanıklılık değeri, yüksek stres bölgelerinde esneme sağlar. Bu özellik, kompozit-diş ara yüz bağlantısındaki uygulanan yükleri tolere edebiliyor.
• Bu sayede ULS® monomeri ile uzun ömürlü restorasyonlar elde edilebiliyor.